<strike id="rhb13"></strike><span id="rhb13"></span>
<span id="rhb13"></span>
<noframes id="rhb13">
<strike id="rhb13"><video id="rhb13"></video></strike>
<strike id="rhb13"><dl id="rhb13"></dl></strike>
<span id="rhb13"><dl id="rhb13"><strike id="rhb13"></strike></dl></span>
<strike id="rhb13"><i id="rhb13"></i></strike>
<span id="rhb13"></span>
<ruby id="rhb13"><video id="rhb13"></video></ruby>
<ruby id="rhb13"><video id="rhb13"></video></ruby>

產品展示

砷化鎵CMP拋光液

名稱:砷化鎵CMP拋光液
詳細信息 :

pH

比重

粘度(25℃,mPa.s)

磨料粒徑(nm)

氧化鈉含量(%

磨料濃度(%)

外觀

8.59.5

1.268~1.30

< 10.0

100120

0.3

40±2

乳白


    UPP/GAS01型 CMP漿料具有金屬雜質沾污極少、活性強、表面張力低、易清洗、拋光速率高等特點,非常適用于集成電路用砷化鎵晶片的拋光工藝。在拋光中根據需要可以優化不同配比,均能達到使用效果。與同類產品相比,該產品采用無金屬離子、易溶于水的螯合劑,有效控制晶片表面的各種金屬沾污,主要參數指標均能滿足IC要求。

UPP/GAS01型 CMP漿料主要用于砷化鎵晶片的高質量拋光,也可用于鍺片的拋光







版權所有 © 2007-2014  拋光液|硅片拋光液|硅溶膠|湖北海力天恒納米科技有限公司
公司地址:湖北黃州火車站經濟開發區鷹嶺二路黃岡化工園    聯系人:李先生   Mobile:18962786978

E-mail:[email protected]

國家工業和信息化部網站備案編號:鄂ICP備17006406號

山东福利彩票规则
<strike id="rhb13"></strike><span id="rhb13"></span>
<span id="rhb13"></span>
<noframes id="rhb13">
<strike id="rhb13"><video id="rhb13"></video></strike>
<strike id="rhb13"><dl id="rhb13"></dl></strike>
<span id="rhb13"><dl id="rhb13"><strike id="rhb13"></strike></dl></span>
<strike id="rhb13"><i id="rhb13"></i></strike>
<span id="rhb13"></span>
<ruby id="rhb13"><video id="rhb13"></video></ruby>
<ruby id="rhb13"><video id="rhb13"></video></ruby>
<strike id="rhb13"></strike><span id="rhb13"></span>
<span id="rhb13"></span>
<noframes id="rhb13">
<strike id="rhb13"><video id="rhb13"></video></strike>
<strike id="rhb13"><dl id="rhb13"></dl></strike>
<span id="rhb13"><dl id="rhb13"><strike id="rhb13"></strike></dl></span>
<strike id="rhb13"><i id="rhb13"></i></strike>
<span id="rhb13"></span>
<ruby id="rhb13"><video id="rhb13"></video></ruby>
<ruby id="rhb13"><video id="rhb13"></video></ruby>